製品開発事業 vwin德赢AC米兰官网
事業の特長
- グループ内の研究要素を発展させ、あるいは他社や大学・高専・公的機関等との共同研究や開発で得られた成果を製品化
- 培って来た技術をベースにユニークな製品を実現
- vwin德赢AC米兰官网から生産用途まで、お客様の幅広いニーズやカスタマイズ要望に対応
vwin德赢AC米兰官网応用装置開発
高真空装置の設計・製造技術や高密度vwin德赢AC米兰官网生成技術を加え、独自の真空応用装置を製品化
vwin德赢AC米兰官网微細加工（vwin德赢AC米兰官网エッチング）装置 TEP-01x／Xd
| 概略 |
- 研究開発向けvwin德赢AC米兰官网微細加工（反応性イオンエッチング：RIE）装置
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| 特長 |
- 加工対象を従来加工困難であった機能性材料（非半導体材料）に特化した深掘りエッチング装置
- デバイスvwin德赢AC米兰官网・試作加工から小規模生産まで対応可能な「R&D向けスタンダードタイプ TEP-01x」とデスクトップサイズを実現した低価格モデル「R&D向け卓上型タイプ TEP-Xd」をラインナップ
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vwin德赢AC米兰官网搬送装置（ミニマルファブ対応）
| 概略 |
- vwin德赢AC米兰官网仕様のミニマルファブ用ウェハ搬送（ロードロック）装置
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| 特長 |
- 外気・微粒子から完全に遮断された状態で搬送容器からウェハを取出し、vwin德赢AC米兰官网装置内にウェハを搬入出することが可能
- w267.5×d114×h378(mm)の空間に前室、ウェハ搬送ロボット、vwin德赢AC米兰官网ポンプ、vwin德赢AC米兰官网ゲージ、コントローラすべてを内蔵したコンパクト設計
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ミニマルファブ
φ12.5mmウェハ1個を生産単位として極小規模で半導体製造工場を形成し、少量の半導体チップ・MEMSなどのマイクロデバイスを低コストかつ短期間で製造することを目的とした、革新的な多品種少量半導体製造システム
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イオンビーム装置（ＥＣＲイオン源）
| 概略 |
- vwin德赢AC米兰官网向け多価イオンビーム生成装置
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| 特長 |
- ミラー電磁石と永久磁石の組合せによるコンパクトなECRイオン源
- 磁場を用いた荷電粒子の高効率閉じ込めによる多価イオン生成が可能
- 複数の異なる周波数帯（2.45GHz／4～6GHz）のマイクロ波を重畳し、低圧域で高密度vwin德赢AC米兰官网生成が可能
- 多価イオンビームの生成
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| 用途 |
- イオンビームを用いた材料分析、微細加工
- 金属－炭素ハイブリッド材料（金属内包フラーレン）のvwin德赢AC米兰官网
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vwin德赢AC米兰官网蒸着装置
| 概略 |
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| 特長 |
- ターボ分子ポンプ搭載によるクリーンな高vwin德赢AC米兰官网排気が可能（到達圧力： 1×10e-4Pa以下）
- 3点切替式の蒸発源による多層蒸着が可能
- vwin德赢AC米兰官网室はガラスベルジャ／SUSチャンバを選択可
- SUSチャンバは作業性の高いハッチ式全面扉を採用
- 基板加熱・基板回転・EBガンなど、用途に合わせて多彩な機構をカスタマイズ可能
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| 用途 |
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プリント基板向けvwin德赢AC米兰官网表面改質装置
| 概略 |
- プリント基板向けvwin德赢AC米兰官网表面改質装置
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| 特長 |
- 多相交流vwin德赢AC米兰官网を用いた独自技術の「熱避型」vwin德赢AC米兰官网表面改質装置
- 磁場を利用したvwin德赢AC米兰官网加熱抑制方式による熱ダメージレスな表面改質が可能
- 狭空間で均一なvwin德赢AC米兰官网生成による高速処理が可能（処理能力：60枚/h）
- 基板の両面同時処理が可能
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金属ナノ粒子製造装置
| 概略 |
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| 特長 |
- 活性液面連続vwin德赢AC米兰官网蒸着法による金属ナノ粒子製造装置
- 多種類の金属ナノ粒子が製造可能
- シングルナノサイズの金属ナノ粒子の製造可能
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vwin德赢AC米兰官网応用装置開発
大気圧vwin德赢AC米兰官网装置
| 概略 |
- 大気中において非平衡vwin德赢AC米兰官网を発生する装置
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| 特長 |
- 特殊な電源を用いることにより、多くの活性種を生成可能
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| 用途 |
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理化学機器開発
LF-8 Plus 濁度蛍光検出器
| 概略 |
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| 特長 |
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| 用途 |
- 濁度・蛍光検出試薬のvwin德赢AC米兰官网および使用
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LT-16 濁度検出器
